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独特优势：
1.皮米级分辨率
a.超薄夹层（100-500nm）
b.超薄氮化硅膜（可达10nm）
c.气体环境可实现皮米级分辨，液体环境可实现埃米级分辨
2.系统使用体系广
a.光源波长：紫外-可见-近红外
b.功率选择：太阳光系列，脉冲激光系列
3.操作便捷
a.光源系统与反应样品台一体化程度高，连接便捷
b.光源系统波段、功率可自动化精确控制
高分辨原位光催化反应系统技术参数：
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温度范围 ： |
RT |
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窗口膜厚： |
10nm, 25nm, 50nm |
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电流范围： |
±10pA~±250mA |
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电极数量： |
3 |
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(HR)EDS/EELS ： |
√ |
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漂移率： |
<0.5nm/min |
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适用电镜： |
FEI, JEOL, Hitachi |
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适合样品 ： |
静态，流体，固体 |
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液体池厚度： |
100~500nm |
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**大电压： |
±50V |
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(HR)TEM/STEM ： |
√ |
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安全性 ： |
** |
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倾转角： |
静态 α=±25°，流体 α=±20 ° |
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适用极靴 ： |
ST,XT,T,BioT,HRP,HTP,CRP |
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光源波长： |
紫外-可见-红外 |
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功率： |
太阳光系列、脉冲激光系列 |
应用领域：
1.化学领域
光催化反应
光聚合反应
光致诱导组装
spr效应的表面结构
2.材料科学领域
光敏材料的光响应行为
太阳能电池
光合作用
系统组成图：
a.原位光催化样品台( 原位光催化系统)
原位光电耦合样品台( 原位光电耦合系统)
b.光源控制系统
c.入射光导入光路系统
d.光纤接口及大功率集成
e.芯片环境制样舱(带泵)
f.高真空检漏仪
g.电化学工作站(原位光电耦合系统)
h.原位光催化&光电芯片(10盒，标配25nm )
i.附件包
更多访问：
http://www.chip-nova.com.cn/SonList-1688743.html
https://www.chem17.com/st384871/erlist_1688743.html