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浓缩了 KANOMAX 历史的型号便携式风速计。实现了热式风速计 2% 的顶级测量精度。可同时测量风速、气温、湿度，还可以计算不适指数、风量、露点。内存中最多可记录 20,000 个数据。八种类型的兼容探头可用于广泛的应用，从空调测量到洁净室微风。
这是用溶液刮掉氧化膜和薄膜的工作。任何剩余的光刻胶都不会被刮掉。有两种类型的蚀刻：使用溶液的湿法蚀刻和使用气体的干法蚀刻。
抗蚀剂剥离/清洁：剩余的光刻胶通过与化学品和气体的化学反应被剥离。如果您在最后进行清洁，您将拥有预期的电路。
通过添加通过离子注入热处理激活的杂质离子，可以改变半导体的特性。
Silicon wafer本身可能因为涂了一层薄膜而有凹凸不平，所以要重新打磨。通过重复从 7) 光刻胶应用到 12) 硅晶片平滑的过程，创建所需的电路。
种薄膜方法，但目前正在实际使用的有以下两种。为了去除水分和氧气，该过程在真空状态下进行或用惰性气体如氮气（N2）或氩气（Ar）代替。如果能在真空状态下加工，本来就什么都没有，那么水分、氧气等杂质不存在的可能性很大，所以优先选择。
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